单晶圆湿法清洗机
※ 控制模式: 手动控制模式 自动控制模式；※ 设备形式: 室内放置型；※ 制程应用： 蚀刻（微蚀刻）制程；去光阻清洗制程；去蜡（胶）清洗制程；精密清洗制程；光罩去光阻清洗制程；※ 适用对象：2-8inch蓝宝石晶片；2-6inch砷化镓晶片；2-8inch碳化硅晶片；其它衬底晶片；1Pcs/ Batch ；※ 选配模块：腐蚀液恒温系统；腐蚀液循环过滤系统；超（兆）声系统；全自动供液系统；更全面的全自动烘干系统；消防系统；可结合客户端通讯协定资料储存、CIM系统、资料分析储存建立管理；※ 机械臂装置：Robot的工艺路径种类：N种（设备出厂前载入PLC内）；机械手传送定位精度：≤0.3mm；机械臂走向：前后位移一对一；转向、前后、左右、上下位移一对四；全程转向左右、前后、上下位移一对多槽等；设备制造：北京华林嘉业科技有限公司（CGB）
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