单温区真空管式气相沉积炉(CVD-5-12) - 西尼特(北京)科技有限公司

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[新品] 单温区真空管式气相沉积炉(CVD-5-12)

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产品参数

品牌：	西尼特
型号：	CVD-5-12
适用范围：	CNT真空管式气相沉积炉主要应用在半导体,石墨烯、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域。
用途：	CNT真空管式气相沉积炉主要应用在半导体,石墨烯、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域。

详细信息

※产品结构：

1、可通入多种气体，配混气罐;

2、炉体采用不锈钢密封法兰（铰链结构），耐高温、耐腐蚀；
3、保护管采用高纯石英管，气管采用卡套或VCR接口，安装方便；

5、炉体采用双层空气隔热技术，配有自动冷却风扇，降低炉体外壳温度；

6、控制系统采用进口40段程序控温，控温精度±1℃，移相触发、可控硅控制；

7、真空系统10pa(机械泵)或6.67pa×10-3pa(扩散泵机组)

8、选配无纸记录仪，记录、存储、显示当前或历史温度曲线，也可通过U盘转存入电脑。

8、选配西尼特智能温控软件，通过电脑进行全程监控和操作；

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