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[新品] 高纯钨靶材(高纯钨靶材)

北京冠金利新材料科技有限公司
联系人 刘元兵
地区 北京市 北京
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产品参数
详细信息

非对称脉冲溅射用钨靶材

厚5mm钨靶材                              冠

长期现货供应钨靶材                    

直径50.8mm钨靶材

钨靶材

低公差钨靶材

精车表面钨靶材

中频交流反应溅射用钨靶材

直径60mm钨靶材                        

圆片圆形钨靶材

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直流溅射用钨靶材

 

非平衡磁控溅射用钨靶材

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高致密高均匀钨靶材

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钨靶材绑定焊接

离子镀溅射用钨靶材

实验室用钨靶材

 

物理性质

 颜色

钢灰色

 密度

19.35g/cm³

 熔点

3407℃

技术指标

 纯度

99.95%

 相对致密度

>99%

 切面平整度

3.2Ra

 公差

±0.1mm

 晶粒度

均匀

材质

冠金利-W

品牌

冠金利-钨

产地

北京市

产品规格

 尺寸01:直径<360mm   厚度>1mm (圆片/圆台/圆棒)

 尺寸02:长度<300mm 宽度<300mm 厚度>1mm   矩形/片材/台阶状(可拼接)

 尺寸03:外直径<360mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm(管材/圆环/旋转靶材)

 尺寸04::根据用户需要进行定制,来样加工,来图加工

***少起订量

1片,量大优惠

供货能力

同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/月

交货期

单片材料1周内发货,批量材料15天-20天内发货(工作日)

制作工艺

真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工

适用仪器

各类型号磁控溅射设备等

产品用途

工业级镀膜,实验或研究级别用钨靶材,电子,光电,军用,装饰饰,功能薄膜等

产品优点

 质量可靠,价格优惠

 真空熔炼,提纯制备,纯度高,杂质少

 轧制致密,氧化少,成型可塑

 相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高

产品附件

正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规***

包装方式

真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装

运输方式

国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦)


 

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