半导体化学品主要包括蚀刻液、剥离液、高纯试剂、清洗液、冷却液和含氟功能材料等系列产品，应用于显示面板、IC集成电路领域，是生产制程中的光刻、显影、蚀刻、剥离、清洗等制造工艺的关键化学品材料，对芯片的良率提升、显示面板画质的清晰度等起着重要的作用。
新宙邦凭借二十余年深耕精细电子化学品的经验积累，依靠高品质的产品和完善的质量管理体系赢得了客户信任，公司相关产品的纯度、金属杂质含量、颗粒数量和粒径、品质一致性、稳定性均满足要求，并且稳定供应行业客户。
未来新宙邦将充分利用自身技术、资源、地域等优势，不断完善生产基地的布局，持续提升产品研发和自主创新的能力，更好的为行业和客户创造价值，提供优质的产品和服务。
高纯化学品主要用于晶圆清洗、光刻、腐蚀等工序中，主要产品有双氧水、氨水、硫酸、异丙醇、氟化铵等，高纯度、高洁净度、少金属杂质，成熟稳定。
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